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    来源:光学薄膜清洗用超纯水设备   作者:中蓝  时间:2015-09-21  浏览:次

    光学薄膜清洗用超纯水设备

      设备参数:
      名称:光学薄膜清洗用超纯水设备
      型号:zl-bm001
      操作压力:5(Mpa)
      水电阻率:18
      出水量:1-100
      外形尺寸:18000(cm)
      电压:380(V)
      水质:超纯水
      功率:130(w)
      电导率:2
      脱盐率:90(%)
      单机动力:1-100(/h)
        光学薄膜清洗用超纯水设备在设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺,确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品,采用PLC控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。

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